5.黃光:在晶片上塗佈光阻溶液,經曝光後在晶片上形成一定圖
案的工藝。
6.化學(或蝕刻):去除黃光制程中
未保護的部分,形成所需圖案。
7.熔合:使蒸鍍過程中蒸鍍的多層金屬分子間
更緊密結合,減少接觸電阻。
8.研磨:減小基板厚度,降低晶粒電阻,同時以利切割。有
研磨法與切削法兩種。
9.切割:將晶片切割為要求之晶粒。常用輪刀式,鑽石式與
激光式三種方法。
10.測試:挑選出各種波長之晶粒,剔除不合格之產品。另有
目檢流程,以保證銷售晶粒之品質。
資料來源:瑋群光電
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